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24小時免費服務熱線:400-699-2885
 

等離子去膠機 Q系列-Q235

發布時間:2017-04-11  瀏覽次數:395 次  來源:科毅科技股份有限公司


典型應用:適用于大批量生產,也適于實驗室使用      
    • 去除光刻膠
    • 干刻或濕刻處理前或后
    • SU-8或其它環氧基樹脂
    • MEMS制造中去除犧牲層
 技術規格:
    •  等離子源-2.45Ghz微波等離子,600W
    • 腔體-石英腔體φ235mm,長260mm,容量11L
    • 適用于Wafer最大150mm批量生產或單片200mm
    • 外觀尺寸-長590mm,寬460mm,高550mm
    • 處理氣體-2路氣體+數字MKS流量控制器

200&500sccm
    • 觀察窗-UV與微波屏蔽保護
    • GUI 10.4’’觸摸屏,Window CE操作系統
選項:
    • D25真空泵系統(含相關附件)或D40
    • 法拉第籠
    • 信號燈塔-紅黃綠三色
    • 額外的處理氣體線路-最多至4路氣體
    • Down Stream Controller真空壓力控制器
    • 包裝,運輸



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