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24小時免費服務熱線:400-699-2885
 

等離子去膠機 Q系列-Q150

發布時間:2017-04-11  瀏覽次數:471 次  來源:科毅科技股份有限公司


典型應用:適用于研發,實驗室或小批量生產
    • 去除光刻膠
    • 干刻或濕刻處理前或后
    • SU-8或其它環氧基樹脂
    • MEMS制造中去除犧牲層
技術規格:
    等離子源-2.45Ghz微波等離子,600W
    腔體-石英腔體φ150mm,長260mm,容量6L
    適用于Wafer最大100mm批量生產
    外觀尺寸-長500mm,寬570mm,高370mm
    處理氣體-2路氣體+數字MKS流量控制器
200&500sccm
    觀察窗-UV與微波屏蔽保護
    GUI 7’’觸摸屏,Window CE操作系統
選項:
    D25真空泵系統(含相關附件)
    法拉第籠
    信號燈塔-紅黃綠三色
    額外的處理氣體線路-最多至4路氣體
    包裝,運輸


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