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半導體工藝-刻蝕機

發布時間:2017-04-11  瀏覽次數:596 次  來源:科毅科技股份有限公司


    等離子刻蝕機,又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統等。等離子刻蝕,是干法刻蝕中最常見的一種形式,其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體,由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
等離子刻蝕機的應用
    等離子體處理可應用于所有的基材,甚至復雜的幾何構形都可以進行等離子體活化、等離子體清洗,等離子體鍍膜也毫無問題。等離子體處理時的熱負荷及機械負荷都很低,因此,低壓等離子體也能處理敏感性材料。等離子刻蝕機的典型應用包括:
等離子體清除浮渣
    光阻材料剝離
    表面處理
    各向異性和各向同性失效分析應用
    材料改性
    包裝清洗
    鈍化層蝕刻
    聚亞酰胺蝕刻
    增強粘接力
    生物醫學應用
    聚合反應
    混合物清洗
    預結合清洗
等離子刻蝕的影響因素
    –氣壓(Pressure)! 
    –溫度(Temperature)提高溫度會提高刻蝕率! 
    –Micro-loading  
    –刻蝕后腐蝕(Post-etch corrosion)! 
    –殘留物(residual)。

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